不用荷兰光刻机!芯动科技正式官宣,国产7nm芯片打破国外垄断

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我们都知道,美国禁令之下芯片问题已经成为了当下科技圈最热的话题,这其中的原因除去芯片本身在科技发展中具有不可替代性之外,还因为我国半导体产业在这一块确实存在非常严重的“卡脖子”情况。

我们能造几纳米芯片?

就目前来看,当前国际一流的芯片大多采用7nm制程工艺制造,但是拥有7nm及以下工艺的目前全球却只有台积电和三星两家,而且美国技术的占比还非常高。比如根据台积电公布的官方数据,其14nm和7nm工艺美技术占比就在15%以上。

那么如果完全不用美国技术,我们能够造出多少纳米的芯片呢?根据倪光南院士的说法,国内能够独立自主制造28nm光刻机,同时也具备28nm乃至14nm工艺芯片制造能力。

不过这里需要说一下的是,目前我国最先进的国产光刻机还是90nm级别,至于最新的28nm国产光刻机,根据上海微电子的透露,预计两年内便可线下。

所以,目前的情况是,如果仅凭现有的技术,那么我们可以制造28nm甚至14nm芯片,但是如果要制造更高端的7nm,5nm芯片,那还是得依靠荷兰的EUV高端光刻机。

芯动科技正式官宣

但是现在情况不一样了,近日芯动科技正式官宣,国产7nm芯片打破外国垄断,就算不用EUV光刻机也能造出7nm芯片!

根据芯动科技在10月11日公布的消息,其已经完成全球首个基于中Xin国际 FinFET N+1 先进工艺的芯片流片和测试。值得注意的是,此次所有 IP 全自主国产,功能也是一次测试通过。

这个FinFET N+1工艺有什么特别的呢?根据业内大佬梁梦松在今年早些时候的透露,该工艺生产出来的芯片和台积电14nm芯片标准相比,性能提升20%,功耗降低57%,在功率和稳定性方面几乎与台积电7nm工艺等同。

这也就意味着,就算是不用EUV光刻机,只用普通的光刻机,再搭配上FinFET N+1工艺就可以制造出等同于台积电的7nm芯片。

更重要的是,正如芯动科技所官宣的那样,此次所有IP全自主国产,完全不用担心卡脖子问题!

此外,目前该消息已经上了《珠海特区报》,并且获得高度赞誉:“芯动科技首个基于中芯国际先进工艺的芯片流片和测试成功,不仅意味着具有自主知识产权的‘国产芯’再次打破国外垄断,同时也说明‘国产版’的7nm芯片制造技术已经得到突破。”

芯片是人造的,不是神造的

关于芯片制造,比亚迪的老总王传福曾经喊出了这样一句口号:“芯片是人造的,不是神造的”。

事实上也的确如此。当芯片制造被卡脖子时,网络上铺天盖地的都是科普芯片制造有多么难,甚至于台积电创始人张忠谋在早些时候也曾说“即便大陆举国之力发展芯片制造,也难以取得成功”。

但是实际上,就拿光刻机来说,被誉为“人类工业皇冠上的明珠”,荷兰ASML公司总裁就直言:“给中国人图纸也造不出高端光刻机”,同时还有很多人说造光刻机比造原子弹还要难。

而事实上呢?造光刻机确实很难。

以荷兰EUV光刻机为例,不仅重量高达180吨,而且内部零件有8万多个,仅仅是安装、调试就要花一年时间。

更重要的是,它是一件集美国光源设备、日本的光学技术、德国的机械工艺、瑞典的轴承等等各国尖端工艺的精密设备,单凭一家企业确实很难在短时间内做出来。

但是别忘了,当初造原子弹的时候我们是什么样的一个科技基础,现在又是一个什么样的科技基础?当初一穷二白都能造出原子弹,现在已经能够造出90nm国产光刻机,甚至于两年内便能下线28nm光刻机,有这样的基础在还能造不出高端国产光刻机?

更何况,就在前一段时间,中科院院长白春礼已经亲自出面表示,将发挥“集中力量办大事”的精神,集全院之力攻克包括光刻机在内的技术难题。如此一来,还用担心光刻机的问题吗?

现在芯动科技的官宣,证明我们的国产7nm芯片已经打破国外垄断,接下来应当就是关于国产7nm工艺的大规模应用。

写在最后

还是那句话,芯片是人造的,不是神造的。别人都已经造出来了,证明了这件事的可行性,我们又有基础在,那么接下来的发展就是拼人力和物力。

不管别人怎么说,我们不可能因为一件事很难,就不去做了。相反,我们之所以会感觉一件事很难,恰恰正是因为不想做才会很难!期待中国半导体产业能够后来居上!

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